Produktoversikt
Nano 3D Lithography System er avanserte projeksjons-baserte mikro-stereolitografi (PμSL) plattformer designet for additiv produksjon i mikro- og nano-skala.
Ved å utnytte litografiske-optiske systemer og maskeløs direkte-teknologi, oppnår Ploceus-serien bransjeledende-oppløsning ned til1 μm, som muliggjør fremstilling av komplekse mikrostrukturer med høyt-aspekt-forhold, enheter med flere-materialer og keramiske komponenter med eksepsjonell dimensjonsnøyaktighet.
Serien inkluderer flere presisjonsnivåer for å møte ulike forsknings- og industrielle krav:
LSS-20– Standard presisjon (20 μm)
LSS-10 /– Høy presisjon (10 μm)
LSS-05– Avansert mikropresisjon (5 μm)
LSS-02– Ultra presisjon (2 μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– Multi-linsejusteringssystemer (opptil 1 μm)
Med modulære konfigurasjonsalternativer, bytting av flere-oppløsninger og visuell justering, støtter Ploceus-serien både rask prototyping og høy-mikrofabrikasjon.
Fordeler
① Ultra-høy litografisk nøyaktighet
Oppløsning fra20 μm ned til 1 μm
Dimensjonstoleranse så lav som ±3 μm
Fremstilling av struktur med høyt sideforhold
② Bytting av flere-oppløsninger
Rask veksling mellom 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm
Én plattform for ulike presisjonskrav
③ Multi-materialkompatibilitet
Harpiks
Biokompatibel harpiks
Hydrogel (f.eks. GelMA)
Alumina keramisk slurry
Teknisk harpiks med høy-temperatur
④ Visuell justering og WYSIWYG-behandling
Optisk-sanntidsovervåking
Automatisk nivellering og fokus
Multi-material heterogen justering
Overleggsjusteringsnøyaktighet opptil 2,5 μm
⑤ Høy-utskrift
5–50× raskere enn tradisjonelle mikrofabrikasjonsverktøy
Egnet for både prototyping og batchforskningsproduksjon
⑥ Modulært og fleksibelt vatsystem
Minikar (15 ml) for materialutvikling
Stor kar for volumproduksjon
Utskriftsmodul for høy-temperatur
Automatisk de-deboblesystem
Søknader
Biomedisin og biovitenskap
· Mikrofluidiske brikker
· Organoid-på-a-brikkeplattformer
· Microneedle arrays (solid og hul)
· Vevstekniske stillaser
· Legemiddelleveringssystemer
· PDMS mesterformer
Avanserte materialer og metamaterialer
Keramiske gitterstrukturer
Gradient metamaterialer
Tre ganger periodisk minimal overflate (TPMS)
Mekaniske metamaterialer
Porøse keramiske stillaser
Mikro-mekaniske og funksjonelle enheter
· Mikrogir
· Mikrokontakter
· Optiske metaflater
· Mikro-fjærer
· Funksjonelle mikrostrukturer
Parametere
|
Modell |
Litografisk nøyaktighet |
Min. lagtykkelse |
Utskriftstoleranse |
Maks utskriftsstørrelse |
Linsesystem |
|
LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50 mm |
Enkelt objektiv |
|
LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50 mm |
Enkelt objektiv |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50 mm |
Enkelt objektiv |
|
LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50 mm |
Dobbel linse |
|
LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50 mm |
Dobbel linse (justering) |
|
LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50 mm |
Trippellinse (justering) |
FAQ
Spørsmål: 1. Hvilken teknologi bruker dette systemet?
Sv: Systemet er basert på projeksjonsmikro-stereolitografi (PμSL) og maskeløs direkte-litografiteknologi, som muliggjør høy-presisjon mikro/nano-skala 3D-fabrikasjon.
Spørsmål: 2. Hva er den høyeste tilgjengelige oppløsningen?
A: Avhengig av modellen varierer litografinøyaktigheten fra:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
opptil 1 μm (PL-3D-PT)
Spørsmål: 3. Hvilke materialer støttes?
A: Systemet støtter et bredt spekter av materialer, inkludert:
Funksjonelle harpikser
Biokompatible harpikser
Tekniske harpikser med høy-temperatur
Hydrogel (f.eks. GelMA)
Alumina keramisk slurry
Egendefinert materialkompatibilitet er tilgjengelig på forespørsel.
Spørsmål: 4. Kan den skrive ut keramiske strukturer?
A: Ja. Utvalgte modeller støtter keramisk slurry-utskrift, noe som muliggjør fremstilling av porøse keramiske stillaser, gitterstrukturer og metamaterialer.
Spørsmål: 5. Støtter systemet utskrift av flere-materialer?
A: Ja. Avanserte modeller (PL-3D-PD / PL-3D-PT) støtter utskrift av heterogen justering av flere materialer med overleggsjusteringsnøyaktighet på opptil 2,5 μm.
Spørsmål: 6. Hvilke filformater støttes?
A: Systemet støtter STL-format for 3D-modellinndata.
Q: 7. Hva er den maksimale utskriftsstørrelsen?
A: Avhengig av modellen kan den støttede utskriftsstørrelsen nå opptil:
50 mm × 50 mm × 50 mm
Egendefinerte mva-konfigurasjoner er tilgjengelige.
Spørsmål: 8. Hvilke bransjer er dette systemet egnet for?
A: Typiske bruksområder inkluderer:
Fremstilling av mikrofluidisk brikke
Microneedle arrays
Vevstekniske stillaser
Metamaterialer
Metaflater
Mikro-mekaniske enheter
Det er mye brukt i biomedisinsk forskning, avanserte materialer og mikrofabrikasjonsfelt.
Spørsmål: 9. Hva er installasjonskravene?
A: Temperatur: 20–40 grader
Fuktighet: RF < 60 %
Standard laboratoriemiljø
Ingen renrom er nødvendig for grunnleggende drift (avhengig av bruksbehov).
Spørsmål: 10. Hvordan er det sammenlignet med konvensjonelle SLA- eller DLP 3D-skrivere?
A: Ploceus-systemet tilbyr:
Litografi-graderer optisk nøyaktighet
Mikron-nivåoppløsning (1–5 μm)
Høyere dimensjonsstabilitet
Muligheter for justering av flere-materialer
Den er designet for mikro/nano-fabrikasjon i stedet for generell prototyping.
Populære tags: nano 3d litografi system, Kina nano 3d litografi system produsenter, leverandører
