Produktoversikt
Denne enkelwafer-renseren er bygd spesielt for arbeid med halvlederwafer-som dekker alt fra 8-tommers til 12-tommers formater, ingen unntak. Hver modell kommer med presise prosesskontroller (tenk oppvarming, konsentrasjon, strømningshastighet) og SECS/GEM-kommunikasjon, så det er en lek å integrere den i smarte fabrikker. Enda bedre, det er fullt konfigurerbart for å matche det applikasjonen din trenger.
Her er hvordan serien deler seg:
SWC 100:
Designet med 12-tommers wafere i tankene. Den har 8 kamre og fungerer med 4 FOUP-er, og håndterer alle standard våte prosesser du trenger i dag-.
SWC 200:
Et annet 12-tommers fokusert alternativ, men med en boost-12 kamre i stedet for 8, pluss 4 FOUP-kompatibilitet. Kjerneprosessene? Nøyaktig det samme som SC3100, så ingen ny læringskurve.
SEC Plus:
Den fleksible av gjengen. Den fungerer med både 8- og 12-tommers wafere, og du kan tilpasse kammerantallet fra 2 til 8. Perfekt for kraftenheter og silisiumbaserte prosessoppsett.
Fordeler
◆ Format- og konfigurasjonsfleksibilitet
SWC100 / SWC 200: Fast 12-tommers støtte (8/12 kammer) for standardproduksjon med høyt volum.
SEC Plus: 8–12-tommers kompatibilitet + tilpassbare kamre, tilpasset arbeidsflyter for blandede formater/kraftenheter.
◆ Nøyaktig prosesskontroll
Alle modeller: Oppvarming/konsentrasjon/flyt/trykkkontroll, pluss valgfrie kjemi (DHF, SC1, etc.) og 3ea dyser for jevn behandling.
SEC Plus: Tilsatt syre/base/organisk eksosseparasjon + kjemisk gjenvinning, forbedrer sikkerheten og kostnadseffektiviteten.
◆ Bred kompatibilitet
SWC100 / SWC 200: 4FOUP-bærerstøtte for 12-tommers fab-integrasjon.
SEC Plus: 2–4 Open Cassette/SMIF/FOUP-kompatibilitet, tilpasset eldre og moderne produksjonslinjer.
Søknader
SWC100 / SWC 200 (12-tommers wafere)
Kjerneprosesser: RCA-rengjøring, GATE-rengjøring, oksidetsing/stripping, fjerning av fotoresist.
Spesifikke bruksområder: fjerning av partikler/metall/organisk forurensning, før/etter-rengjøring, rensing av Al/Cu-forbindelser (for logikk/minnebrikker).
SEC Plus (8–12-tommers wafere)
Målenheter: Silisiumkarbid/silisiumkraftenheter, silisium-baserte prosessenheter.
Spesifikke prosesser: Tynning/rengjøring av baksiden, rengjøring av tynne skiver, høy-temperatur H3PO4-etsing, pluss standard fjerning av forurensning og rensing av sammenkoblinger.
Parametere
|
Spesifikasjon |
SWC100 |
SWC 200 |
SEC Plus |
|
Wafer størrelse |
12 tommer |
12 tommer |
8-12 tommer |
|
Chambers |
8 kammer |
12 kammer |
2-8 kammer (tilpasses) |
|
Transportørkompatibilitet |
4FOUP |
4FOUP |
2-4 Åpne kassett/SMIF/FOUP |
|
Støttede kjemier |
DHF,SC1,SC2,DIO3,DICO2,IPA,N2 |
DHF,SC1,SC2,DIO3,DICO2,IPA,N2 |
Etchant,SC1+Megasonic,DHF,DICO2,N2 |
|
Prosesskontrollfunksjoner |
Oppvarming/konsentrasjon/flyt/trykkkontroll |
Oppvarming/konsentrasjon/flyt/trykkkontroll |
Oppvarming/konsentrasjon/flyt/trykkkontroll |
|
Støtte for kjemisk forsyning |
N/A |
N/A |
CCSS, LCSS |
|
Eksoshåndtering |
N/A |
N/A |
Separat eksos (syre/base/organiske stoffer) |
|
Ekstra funksjoner |
N/A |
N/A |
Kjemisk gjenvinning; beskyttelse mot overoppheting av bad; lekkasje |
|
Kommunikasjonsprotokoll |
SECS/GEM |
SECS/GEM |
SECS/GEM |
FAQ
Hvilke waferstørrelser støtter disse modellene?
SWC100 / SWC 200 støtter kun 12-tommers wafere; SEC Plus er fleksibel for 8–12-tommers wafere.
Hva er forskjellen mellom SWC100 og SWC 200?
De deler de samme 12--tommers prosessegenskapene – SC3100 har 8 kammer, mens SWC 200 utvides til 12 kammer for høyere gjennomstrømning.
Hvilken modell er egnet for kraftenhetsbehandling?
SEC Plus er optimalisert for silisiumkarbid/silisiumkraftenheter (støtter tynning av baksiden, høy-H3PO4-etsing).
Kan disse systemene kobles til fabrikkens MES?
Ja-alle modeller støtter fullt ut SECS/GEM-kommunikasjonsprotokollen for fabrikkintegrasjon.
Støtter SE-serien kostnadsbesparende-kjemikalier?
Ja, det inkluderer kjemisk gjenvinningsfunksjonalitet (resirkulerer prosesskjemikalier) og klassifisert avfallsdrenering.
Hvilke operatører fungerer disse systemene med?
SWC100 / SWC 200 bruker 4FOUP; SEC Plus støtter 2–4 Open Cassette/SMIF/FOUP (tilpasser seg eldre/moderne linjer).
Populære tags: single wafer cleaner, Kina single wafer cleaner produsenter, leverandører
