Produktoversikt
LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) er en kjerneteknologi for halvlederprosesser-under lavt-trykksforhold, den varmer opp gassformige forbindelser for å utløse reaksjoner, og legger stabile faste tynne filmer på underlagets overflater. Den brukes hovedsakelig til å lage nøkkelfilmer som silisiumnitrid, silisiumoksyd og polykrystallinsk silisium, og passer rett inn i kjerneprosessbehovene til integrerte kretser, optoelektroniske enheter og lignende felt.
EXWELLs uavhengig utviklede horisontale og vertikale LPCVD-modeller skiller seg begge ut med høy-temperaturkontroll og topp-filmensartethet. Enten du utfører FoU-verifisering eller øker produksjonen i stor-skala, har de dekket deg. Horisontal LPCVD kan bytte mellom oksidasjon, diffusjon, gløding og andre prosesser jevnt-perfekt for batchproduksjon og prosesskontroller på 8-tommers og mindre wafere.
Vertical LPCVD går for en modulær design pluss automatisert integrasjon, som dekker 6-12 tommers waferspesifikasjoner. Det passer bedre for intelligente produksjonslinjer som trenger effektiv deponering. Sammen leverer disse to modellene stabile, pålitelige lavtrykksløsninger for produksjon av halvledere – ingen masete oppsett, bare konsistent ytelse når det gjelder.
Søknader
Begge modellene er mye brukt på tvers av integrerte kretser (IC), optoelektroniske enheter og brede-båndgap-halvlederfelt-som dekker alt fra FoU-verifisering til full-masseproduksjon:
IC-produksjon:
Forbereder portoksider og mellomlagsdielektrikk for CMOS, IGBT og lignende brikker. Det er et nøkkeltrinn for å sikre at chipytelsen treffer målet.
Optoelektronisk produksjon:
Legger optiske filmer for VCSEL-enheter, tilpasser både optiske og elektriske egenskaper for å fungere bedre.
Bredt-båndgap-behandling:
Fungerer sømløst med tynne-filmavsetninger av silisiumkarbid (SiC), som matcher behovene til enheter med høy-temperatur.
Vitenskapelig forskning:
Støtter små-batch-eksperimenter-enten du tester nye materialer som litiumniobat eller nye prosesser som kvantebrikkefilmavsetning.
Fordeler
1. Høy-kvalitetsavsetning: Profesjonell temperaturkontroll og rene kammer garanterer jevn filmavsetning-Horisontale modeller treffer Mindre enn eller lik ±2 % ensartethet, vertikale mindre enn eller lik ±3 %.
2. Sterk tilpasningsevne: Håndterer flere tynne-filmtyper og forskjellige waferstørrelser (Horisontal maks. 8 tommer, vertikal dekker 6-12 tommer).
3. Stabil drift: Den horisontale modellens modne struktur og begge modellenes pålitelige design lar dem kjøre kontinuerlig over lang tid, noe som reduserer nedetiden.
4. Fleksibel prosessbytte: Vendler enkelt mellom oksidasjon, diffusjon, gløding og andre prosesser-perfekte for verifiseringsarbeid med flere-prosesser.
5. Modulær og automatisert: Bygget med modulær design og automatisert integrasjon, kobles de jevnt til intelligente produksjonslinjer. Den vertikale modellen passer også inn i 12-tommers wafermasseproduksjonsbehov.
Parametere
|
Wafer størrelse |
6-12 tommer |
|
Temperaturområde |
500 grader -800 grader |
|
temperaturkontrollnøyaktighet |
Mindre enn eller lik ±0,5 grader |
|
Flatsone |
300-1000 mm kan tilpasses |
|
Ensartet filmtykkelse |
WIW mindre enn eller lik ±3 %; WTW mindre enn eller lik ±3 % |
FAQ
Når det kommer til kompatibilitet med waferstørrelse, hva er den viktigste forskjellen mellom horisontal og vertikal LPCVD?
Horisontal LPCVD fungerer med 8-tommers skiver og mindre, mens vertikal LPCVD dekker et bredere område-6 til 12 tommer. Det gjør den vertikale modellen til et bedre valg for masseprodusering av store wafere.
Kan begge systemene avsette tynne filmer utover silisiumnitrid, silisiumoksyd og polykrystallinsk silisium?
Akkurat nå er de tre tynne filmene deres hovedfokus. Men hvis du trenger spesielle filmer, kan vi utarbeide skreddersydde løsninger basert på dine spesifikke prosessbehov.
Hvilket temperaturområde opererer disse to LPCVD-enhetene i?
De er ganske like-begge kjører mellom 500 grader og 800 grader. Denne serien passer perfekt med lavtrykksprosessen for kjemisk dampavsetning for de fleste vanlige halvleder-tynne filmer.
For vitenskapelige forskningsinstitusjoner, hvilket LPCVD-alternativ fungerer bedre?
Horisontal LPCVD er veien å gå her. Den kan bytte mellom prosesser som oksidasjon, diffusjon og annealing-super hendig for å møte de ulike behovene til små-batch-forskningsprosjekter.
Hvordan sikrer du at de tynne filmene fra disse to enhetene er ensartede?
Begge kommer med presise temperaturkontrollsystemer, som er nøkkelen for stabile temperaturer i lav-miljøer. For den horisontale justerer vi prosessparametere for å øke jevnheten; den vertikale modellen bruker koordinert luftstrøm og temperaturfeltdesign. Vanligvis vil horisontale treff Mindre enn eller lik ±2 % jevnhet, vertikalt rundt Mindre enn eller lik ±3 %.
Spiller begge enhetene bra med intelligente produksjonslinjer?
Vertikal LPCVD er bygget for automatisert integrasjon, så den passer rett inn i intelligente linjer og øker effektiviteten. Horisontal LPCVD prioriterer prosessfleksibilitet, så den er mindre integrert med smarte systemer,-men den dekker fortsatt grunnleggende produksjons- og FoU-behov.
Hvor ofte trenger disse to enhetene vedlikehold?
Vanligvis er det nødvendig med vedlikehold hver 6. til 12. måned-ting som rengjøring av hulrommet og kalibrering av temperaturkontrollsystemet. Nøyaktig tidspunkt avhenger av hvor ofte du bruker det og hvor komplekse prosessene dine er, men vårt ettersalgsteam- vil sende påminnelser regelmessig.
Er horisontal LPCVD bare for FoU, eller kan den håndtere masseproduksjon også?
Det gjør begge deler bra. Den er fleksibel nok for små-grupper av FoU, og dens modne, pålitelige struktur (påvist i markedet) støtter også masseproduksjon av 8-tommers og mindre wafere – flott for oppsett som trenger flere prosesser kombinert.
Populære tags: lpcvd utstyr, Kina lpcvd utstyr produsenter, leverandører
